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（來源：IT之家）

IT之家 11 月 26 日消息，上海芯上微裝科技股份有限公司（AMIES）昨日宣佈：公司自主研發的首台 350nm 步進光刻機（AST6200）正式完成出廠調試與驗收，啓程發往客戶現場。

芯上微裝表示，這標誌着我國在高端半導體光刻設備領域再次實現關鍵突破！這不僅是一次產品的交付，更是國產半導體裝備向高端化、自主化邁進的重要里程碑。

據官方介紹，AST6200 光刻機是芯上微裝基於多年光學系統設計、精密運動控制與半導體工藝理解積澱，傾力打造的高性能、高可靠性、全自主可控的步進式光刻設備，專為功率、射頻、光電子及 Micro LED 等先進製造場景量身定製。

▲ 芯上微裝首台 350nm 步進光刻機（AST6200） 核心性能亮點

高分辨率成像滿足先進工藝需求，搭載大數值孔徑投影物鏡，結合多種照明模式與可變光瞳技術，實現 350nm 高分辨率，滿足當前主流化合物半導體芯片的光刻工藝要求。

高精度套刻配置高精度對準系統，實現正面套刻 80nm，背面套刻 500nm，確保多層圖形精準套刻，提升器件良率。

高產率設計，顯著降低擁有成本（COO）：

強工藝適應性，兼容多材質、多形態基底：

100% 軟件自主可控打造全棧國產生態：AST6200 搭載芯上微裝自主研發的全棧式軟件控制系統，從底層驅動到上層工藝管理，實現完全自主主權，且具備強大的工藝擴展性與遠程運維能力。

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