台積電前研發副總裁林本堅近日在接受媒體專訪時提出一個引人關注的觀點：中國大陸或許無需依賴EUV光刻機，僅憑現有的浸潤式DUV光刻機技術，就有可能突破5納米芯片製造工藝。這位被譽為「浸潤式光刻機之父」的專家指出，浸潤式DUV光刻機本身具備這樣的技術潛力，其原理在於通過多重曝光等工藝優化手段，能夠突破傳統技術節點的限制。追溯浸潤式光刻機的發展歷程，林本堅在台積電任職期間主導了這項技術的研發。當時日本...
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