中芯國際取得版圖圖形尺寸校準方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質專利

金融界

12/03

國家知識產權局信息顯示，中芯國際集成電路製造（上海）有限公司取得一項名為「版圖圖形尺寸校準方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質」的專利，授權公告號CN 119493330 B，申請日期為2023年8月。

天眼查資料顯示，中芯國際集成電路製造（上海）有限公司，成立於2000年，位於上海市，是一家以從事計算機、通信和其他電子設備製造業為主的企業。企業註冊資本244000萬美元。通過天眼查大數據分析，中芯國際集成電路製造（上海）有限公司共對外投資了4家企業，參與招投標項目127次，財產線索方面有商標信息150條，專利信息5000條，此外企業還擁有行政許可446個。

聲明：市場有風險，投資需謹慎。本文為AI基於第三方數據生成，僅供參考，不構成個人投資建議。

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作者：情報員

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