ASML CEOChristophe Fouquet 在公司總部接受彭博社專訪時表示，預計 High NA EUV 光刻機將於 2027 至 2028 年正式投入先進製程的大規模量產。目前在導入新一代圖案化技術方面最積極的是英特爾代工，其支持 High NA EUV 的 Intel 14A 節點計劃於 2027 年正式推出。Fouquet 指出，High NA EUV 光刻機正由英特爾等客戶進行...
網頁鏈接ASML CEOChristophe Fouquet 在公司總部接受彭博社專訪時表示，預計 High NA EUV 光刻機將於 2027 至 2028 年正式投入先進製程的大規模量產。目前在導入新一代圖案化技術方面最積極的是英特爾代工，其支持 High NA EUV 的 Intel 14A 節點計劃於 2027 年正式推出。Fouquet 指出，High NA EUV 光刻機正由英特爾等客戶進行...
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