12月15日，阿斯麥（ASML）首席執行官克里斯托夫·富凱表示，公司為High-NA EUV（高數值孔徑極紫外光刻機）所設計的光刻改進方案已得到驗證，成像效果極佳，分辨率非常出色。目前公司正與客戶合作，以全面完善該光刻系統的成熟度。報道稱，阿斯麥將與客戶密切配合，確保High-NA EUV在明年內實現停機時間降至最低的穩定運行。富凱預計，High-NA EUV將在2027至2028年間實現大規模量產。
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責任編輯：櫟樹
12月15日，阿斯麥（ASML）首席執行官克里斯托夫·富凱表示，公司為High-NA EUV（高數值孔徑極紫外光刻機）所設計的光刻改進方案已得到驗證，成像效果極佳，分辨率非常出色。目前公司正與客戶合作，以全面完善該光刻系統的成熟度。報道稱，阿斯麥將與客戶密切配合，確保High-NA EUV在明年內實現停機時間降至最低的穩定運行。富凱預計，High-NA EUV將在2027至2028年間實現大規模量產。
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