日企開發出1/10電量製造1.4納米半導體的技術

FT中文網
2025/12/18

大日本印刷(DNP)開發出了能以十分之一的耗電量生產先進半導體的技術。將面向佳能生產的新方式製造裝置,於2027年量產可支持新一代1.4納米(1納米為十億分之一米)產品的核心構件。人工智能(AI)半導體的製造成本有大幅降低的可能性。

目前,要量產最先進的半導體,需要使用全球只有荷蘭阿斯麥控股(ASML Holdings)生產的極紫外(EUV)光刻機。在晶圓(基板)上繪製電路的「光刻工序」佔半導體總製造成本的3至5成。電路越精細,光刻次數就越多,耗電量也隨之增加。一台EUV光刻機的價格為300億日元左右,給半導體廠商帶來沉重的投資負擔。

而佳能的「納米壓印(Nanoimprint )」製造裝置採用類似蓋印章的方式在晶圓上製作電路。DNP開發出了相當於精細印章的電路原版「模板(template)」 ,最高可用於1.4納米制程。此前該技術無法支持2納米等先進半導體的製造。

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(本文由日經中文網提供)

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