一、引言在半導體晶圓製造的薄膜沉積環節，化學氣相沉積（CVD）設備是保障器件絕緣性能與結構完整性的核心裝備，尤其在邏輯芯片介質層、存儲芯片鈍化層製造中發揮關鍵作用。泛林半導體（Lam Research）作為全球半導體設備寡頭企業之一，其Vector系列CVD設備憑藉高精度介質層沉積、寬工藝窗口適配等核心優勢，已成為全球主流晶圓廠的標杆級裝備，廣泛應用於28nm及以上成熟製程的介質層沉積、鈍化層製備...
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