ASML研究人員表示，他們已找到一種方法來增強關鍵芯片製造設備光源的功率，到本十年末可使芯片產量提高最多50%，以幫助這家荷蘭公司在與崛起的美中對手的競爭中保持領先。ASML負責EUV光源技術的首席技術專家Michael Purvis稱，新系統能在完全符合客戶現場所有要求的前提下穩定輸出1000瓦功率，到本十年末，每台設備每小時可處理約330片晶圓，較目前的220片顯著提升。 EUV光刻機對芯片生產至關重要，在美國，至少有兩家初創公司——Substrate和xLight——已籌集數億美元資金，致力於開發與ASML技術抗衡的美國產品，其中xLight獲得了特朗普政府提供的資金支持。