荷蘭光刻設備製造商阿斯麥高管表示，公司新一代極紫外光刻機已準備就緒，芯片製造商可開始將其用於大規模生產。該設備單價約4億美元，為初代EUV機型的兩倍。阿斯麥首席技術官馬爾科·皮特斯稱，該設備已累計加工約50萬片硅晶圓，停機時間極低，圖案精度達到量產標準。
荷蘭光刻設備製造商阿斯麥高管表示，公司新一代極紫外光刻機已準備就緒，芯片製造商可開始將其用於大規模生產。該設備單價約4億美元，為初代EUV機型的兩倍。阿斯麥首席技術官馬爾科·皮特斯稱，該設備已累計加工約50萬片硅晶圓，停機時間極低，圖案精度達到量產標準。
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