快科技5月10日消息，近日，一則"上海微電子28nm浸沒式DUV光刻機完成首批批量交付"的消息刷屏半導體圈。

對此，芯智訊發布文章闢謠，直指該消息存在多處嚴重事實錯誤。

文章首先質疑了報道的信源問題。該報道僅以"據報道"含糊其辭，沒有提及任何具體的權威來源，這對於光刻機這樣的重大科技新聞來說，顯然缺乏基本的嚴肅性。

報道聲稱"2026年1月，上海微電子在長三角半導體產業峯會上首次官宣SSA800系列實現全面量產"。但調查發現，這個所謂的「長三角半導體產業峯會」沒有任何權威媒體報道，查不到舉辦時間、地點、主辦方等任何基本信息。上海微電子官方也從未發布過相關公告。網上所有關於該峯會的內容，全部都是與"上海微電子官宣量產"綁定的自媒體通稿。

另一個不實說法是"2026年3月SEMICONChina展會上，上海微電子首次公開展示了SSA800樣機"。芯智訊記者明確表示，自己當時就在展會現場，上海微電子的展台上根本沒有這款設備。展會期間及結束後，也沒有任何正規媒體報道過此事。

最離譜的是"量產良率90%~95%"的說法。一位光刻機廠商內部人士直言："這是假消息，光刻機哪裏來的良率。"光刻機是生產芯片的設備，本身不存在"良率"這一指標。

即便指的是用它生產芯片的良率，這個數字也過於誇張。要知道台積電28nm工藝2011年量產後，直到2012年8月良率才勉強超過80%。

一位國內晶圓代工廠人士透露，目前SSA800系列並未進入任何商業化晶圓廠，仍然在集成電路研發中心（ICRD）進行測試驗證。所謂的"首批批量交付"和"量產工藝驗證"均與事實不符。

據了解，SSA800實際上就是近幾年市場一直傳聞的國產「28nm光刻機」，是一款193nmArF浸沒式光刻機，套刻精度控制在2.3~2.5nm，每小時可處理150片晶圓，對標的是ASML TWINSCAN NXT:1950i。後者的專用卡盤套刻精度為2.5nm，混合匹配套刻精度為3.5nm，每小時可處理200片晶圓。

文章最後表示，期盼國產光刻機突破是每一箇中國人的樸素情感，但越是渴望，越應該守住理性底線。虛假的"放衛星"不僅會誤導公衆，還會破壞產業鏈踏實攻堅的嚴肅性。

真正的技術突圍，從來不需要靠炒作來證明自己。

【本文結束】如需轉載請務必註明出處：快科技

責任編輯：朝暉