韓國產業通商資源部在一份聲明中表示,為助力本土蓬勃發展的芯片產業維繫競爭力,韓國將簡化半導體生產所用極紫外(EUV)光刻機的進口通關手續。根據內閣批准的修訂版《高壓氣體安全控制法》實施細則,EUV 設備進口辦理周期將從此前的34天縮短至約9天。韓國產業部表示,此項新政將利好三星電子與 SK 海力士,兩家企業可更快完成高端芯片生產設備的裝機投產。
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責任編輯:王永生
韓國產業通商資源部在一份聲明中表示,為助力本土蓬勃發展的芯片產業維繫競爭力,韓國將簡化半導體生產所用極紫外(EUV)光刻機的進口通關手續。根據內閣批准的修訂版《高壓氣體安全控制法》實施細則,EUV 設備進口辦理周期將從此前的34天縮短至約9天。韓國產業部表示,此項新政將利好三星電子與 SK 海力士,兩家企業可更快完成高端芯片生產設備的裝機投產。
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