韓國產業通商資源部周二表示,政府將簡化極紫外光刻(EUV)設備的進口程序。EUV是半導體制造的關鍵設備,此舉旨在幫助韓國蓬勃發展的芯片產業保持其製造競爭力。
根據韓國內閣批准的《高壓氣體安全管理法》修訂實施細則,EUV設備的進口時間預計從目前的34天縮短至約9天。
韓國產業通商資源部表示,此次修訂將有助於三星電子和SK海力士等國內芯片製造商快速獲得EUV設備,這對於建立先進的生產設施至關重要。
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責任編輯:於健 SF069
韓國產業通商資源部周二表示,政府將簡化極紫外光刻(EUV)設備的進口程序。EUV是半導體制造的關鍵設備,此舉旨在幫助韓國蓬勃發展的芯片產業保持其製造競爭力。
根據韓國內閣批准的《高壓氣體安全管理法》修訂實施細則,EUV設備的進口時間預計從目前的34天縮短至約9天。
韓國產業通商資源部表示,此次修訂將有助於三星電子和SK海力士等國內芯片製造商快速獲得EUV設備,這對於建立先進的生產設施至關重要。
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