據快科技，俄羅斯綠城納米技術中心（ZNTC）已成功研製出一台電子束光刻機（ELL）原型機，設計標準為150納米。該項目屬於俄羅斯國家計劃科學技術發展框架下的重點研發任務，代號為Progress ELL 150。 這台設備主要用於製造光掩模，也可在不使用掩模的情況下直接在基板上繪製電路圖案。150納米制程大致對應20年前英特爾奔騰4的性能水平。2025年ZNTC曾展示過350納米分辨率的同類設備，目前已向90納米和130納米技術節點推進。 行業專家指出，這種設備僅適合航天、國防等領域的專用芯片小批量生產。