Toby Sterling/Nathan Vifflin

路透阿姆斯特丹7月28日 - ASML ASML.AS 已成為歐洲市值最高的公司 (link)，這得益於其在光刻系統製造領域的霸主地位。這些巨大的「芯片印刷」機器每台造價高達4億美元，對於推動人工智能熱潮的企業而言不可或缺。

人工智能的進步以及全球數據中心的擴建，促使芯片製造商迅速擴大產能。ASML向台積電（TSMC） 2330.TW 供應設備，後者為Nvidia(輝達/英偉達) NVDA.O 生產芯片；同時，ASML還向SK海力士（SK Hynix） 000660.KS、三星（Samsung） 005930.KS 和美光（Micron） MU.O 等內存芯片製造商供應設備。

在產品線的中端領域，該公司正面臨來自中國 (link) 的新競爭對手，同時，由於向該亞洲國家出口部分設備，它也正承受着來自美國的壓力 (link)。

以下將深入探討這家荷蘭公司崛起背後的技術 (link)。

如何區分DUV、EUV和高數值孔徑（High NA）

ASML 是深紫外(DUV) 和極紫外$(EUV)$ 光刻機的主導製造商，這些設備的名稱源於它們所使用的光波長，用於將芯片的微觀電路刻印到硅片上。

在DUV領域——該領域使用的設備單價約為6000萬美元，用於製造應用於工業和消費電子產品的芯片——ASML的市場份額超過80%，領先於日本競爭對手尼康 7731.T 和佳能 7751.T。

該公司在尖端的極紫外光（EUV）領域佔據壟斷地位，儘管中國和美國的競爭對手正試圖開發替代方案。標準EUV設備價格約為2億美元，目前被廣泛應用於大多數人工智能芯片和尖端存儲芯片的生產。

包括英特爾 INTC.O 在內的芯片製造商正在測試ASML最新的「高數值孔徑（High NA）」EUV設備，該設備將在未來五年內用於製造特徵尺寸更小的新一代AI芯片。目前僅生產了寥寥數台，每台估價在3.5億至4億美元之間。

技術解析：在納米尺度運作的巨型機器

用於製造英偉達芯片的標準極紫外光刻機（EUV）體積如一輛校車般龐大，重達150噸，它利用由激光、反射鏡和磁鐵組成的複雜系統，將微米級電路圖案刻寫到芯片生產所需的硅片上。

它們通過將光圖案投射到硅片上，以極高的精度和速度繪製出多層電路，每塊硅片可能包含約一百顆AI芯片。

極紫外光（EUV）的波長為13.5納米。相比之下，一根人類頭髮的厚度在80,000至100,000納米之間。

激光與反射鏡

為了產生極紫外光，由德國工業企業通快（Trumpf）製造的、迄今為止功率最大的激光器之一，以每秒50,000次的頻率向錫液滴進行轟擊。由德國光學系統製造商蔡司（Zeiss）製造的一套鏡組——其表面比太空望遠鏡所用的鏡面更為平滑，且置於真空環境中——將光線引導至機器的核心部位。

磁懸浮平台以超過每秒3米的速度移動晶圓，其加減速時的加速度超過地心引力的15倍。

ASML的巨型設備是如何運輸的？

極紫外光（EUV）設備在荷蘭組裝完成後，會被裝入約40個集裝箱，並通過貨運飛機運往客戶的芯片製造工廠。ASML在2025年交付了48套此類設備，預計今年將售出65套，2027年將達到85套。