【阿斯麥與台積電推動高NA EUV光罩向12英寸升級，計劃2031年建立試產線】9月8日，荷蘭光刻機製造商阿斯麥與台積電宣佈成立行業合作計劃，推動高數值孔徑極紫外光刻光罩從目前的6英寸向12英寸升級，以提高晶圓廠生產效率、降低芯片製造成本並消除拼接限制。雙方計劃於2031年建立12英寸光罩試產線，並推動12英寸高NA EUV光刻系統於2033年進入先進製程量產。台積電預計自2030年起在先進製程大規模生產中採用ASML高NA技術。
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