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CVD设备

2.59
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盘后2.590.00000.00%16:05 EDT
成交量:4.50万
成交额:11.74万
市值:1,782.40万
市盈率:-257.81
高:2.67
开:2.58
低:2.55
收:2.60
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公司资料

公司名字:
CVD设备
交易所:
NASDAQ
成立时间:
1982
员工人数:
118
公司地址:
355 South Technology Drive,Central Islip,New York,United States
邮编:
11722
电话:
传真:
- -
简介:
CVD Equipment Corporation成立于1982年10月13日。该公司设计、开发和制造范围广泛的设备,用于开发和制造用于化合物半导体、半导体、航空航天、电池储能市场以及先进工业应用和研究的材料和涂层。

董事

名称
职位
Emmanuel Lakios
Chief Executive Officer,President,Director
Lawrence J. Waldman
Chairman of the Board
Debra Wasser
Director
Raymond A. Nielsen
Director
Robert M. Brill
Director

股东

名称
职位
Emmanuel Lakios
Chief Executive Officer,President,Director
Richard Catalano
Chief Financial Officer, Vice President and Secretary
Jeffrey A. Brogan
Vice President Sales and Marketing
Kevin R. Collins
Vice President General Manager-SDC Division
Max Shatalov
Vice President of Engineering and Technology
Warren D. Cheesman
Vice President of Manufacturing Operations