金吾财讯 | “半导体光刻机”被称为“史上最精密机器”之一，光刻机是半导体制造中最为关键的设备之一，其技术水平直接决定了芯片制造的精细化程度，并直接影响芯片性能和功耗。

近日，一则市场消息令人振奋，据英国金融时报，两位知情人士透露，中芯国际正在测试由上海初创公司宇量升制造的深紫外光刻机。正在测试的这款机器采用的是浸没式技术，类似于阿斯麦采用的技术。一位知情人士表示，尽管中芯国际的试验初步结果令人鼓舞，但目前尚不清楚该机器是否以及何时能用于大规模芯片生产。

A股光刻机概念应声走高，截至9月17日A股收盘，波长光电、苏大维格、奥普光电、永新光学涨停，赛微电子涨超8%，中润光学涨超7%，炬光科技、茂莱光学涨超6%%。

同时，消息亦提振港股半导体板块，截至发稿，中芯国际(00981)涨5.93%，华虹半导体(01347)涨3.38%，美佳音控股(06939)涨2.3%，晶门半导体(02878)涨2.08%，中电华大科技(00085)涨1.27%。

当前市场上最高端的产品为ASML研发的EUV光刻机，能支持7nm甚至更先进工艺，被视为延续摩尔定律的核心突破。全球光刻机市场呈现出明显的寡头垄断格局，ASML、Nikon和Canon三家公司长期占据全球光刻机市场的主导地位。其中，ASML凭借其在高端光刻机领域的技术优势，2024年占据了全球光刻机市场61.2%的份额，特别是在EUV光刻机领域，ASML是全球唯一的供应商。尼康和佳能则主要集中在中低端光刻机领域。

中国光刻机需求量较大，但国产化率极低。长期以来，中国在高端光刻机领域始终面临 “卡脖子” 困境。美国早在2018年就开始施压对华高端光刻机的出口，之后又陆续出台“1007新规”等针对政策，限制对中国出口先进制程芯片设备，包括EUV光刻机和先进型号的DUV光刻机，同时联合日本荷兰制定相关出口条例共同对华进行产业封锁。

面对外部封锁压力，在国家政策支持下，国内企业加速研发突破光刻机制造技术，目前国产光刻机在90nm及以下工艺节点方面取得了重要进展。例如，上海微电子自主研发的600系列光刻机已实现90nm工艺的量产，并正在进行28nm浸没式光刻机的研发工作。

此外，工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》也将符合 “国内技术突破、拥有自主知识产权、初期市场竞争力弱” 的光刻机等核心装备纳入支持范围，为国产设备的市场化推广提供政策保障。

9月15日，2025年国家网络安全宣传周网络安全企业家座谈会在昆明滇池国际会展中心举行，中央网信办副主任、国家网信办副主任杨建文指出，头部企业需扛起“卡脖子”技术攻关责任，聚焦芯片等关键领域，联合高校院所打造创新联合体，加速研发自主可控安全芯片以突破垄断。

而宇量升与中芯国际的合作测试，正是国产光刻机突破的又一重要信号。据公开资料显示，宇量升成立于2022年7月，为国有控股企业，同时是中国半导体设备国产化进程中的关键新兴力量，尤其在光刻技术领域承担突破“卡脖子”技术的战略使命。公司定位“半导体专用设备研发与制造”，聚焦EUV光刻机国产化，目标构建独立于美国的半导体设备生态。

从产业影响看，此次试验的鼓舞效应已开始显现。光刻机技术的突破将带动上游材料、精密机械等配套产业升级，加速光刻胶、光学部件等 “卡脖子” 材料的国产化进程，形成 “龙头带动、多点突破” 的产业升级格局。尽管从测试到大规模量产仍需跨越多重挑战，但这一进展无疑为中国半导体产业突围注入了关键动力。