在当前的芯片制造中，光刻机始终是技术制高点，因为几乎所有的大规模芯片量产，都是基于光刻工艺来的，而光刻工艺就需要光刻机。

而进入7nm以下时，就必须使用EUV光刻机，全球仅ASML一家能够制造它，所以大家认为，ASML才是整个EUV光刻机体系中的技术老大。

但事实上，ASML还真不是技术老大，ASML真正最厉害之处，并不是技术有多牛，而是整合，将全球最厉害的技术，整合到一起，最终组装出了EUV光刻机。

在EUV技术体系中，美国光源占到27%，荷兰腔体和英国真空占到32%，德国光学系统占到14%，日本材料占到27%。

具体从EUV光刻机来看，一台EUV光刻机，由几十万个零件组成，但总体来看，有三项重要核心技术，一是EUV光源的制造（光源系统）、二是EUV光源制造出来后的收集和控制（物镜系统），三是后续精密仪器的制造技术（精密工作台）。

这其中每一项的难度都非常大，且这三项，其实都不是ASML的技术，ASML都是通过整合别人的而来。

其中有一项特别特别关键，全球只有一家能够提供，那就是第二项的物镜系统，目前全球仅蔡司（Zeiss）拥有浸润式光学系统、EUV光学系统能力，除蔡司外，全球没有任何其它的替代厂商。

而在整个EUV体系中，也只有这个蔡司的物镜系统全球唯一，其它的多多少少还有可以想办法的替代厂商，但物镜系统全球唯一。

在ASML目前的EUV光刻机中，光学物镜系统高约1.5m，重3.5吨，由3.5万个独立部件组成；其中照明系统共1.5万个组成部分，重1.5吨；投影物镜共2万个组成部分，重2吨。

全球除了蔡司之外，没有任何一家厂商能够提供。蔡司也表示称，他们已累积了超过1,500 项与EUV 相关的技术专利。

所以没有任何企业可以绕过蔡司自行制造EUV 的光学物镜系统，目前全球80%的芯片制造，都离不开蔡司提供的光学组件。

所以说，总体来看，蔡司其实才是整个EUV体系中的技术王者，它才是大哥，ASML只是将蔡司的技术产品拿过来了，并且绑定在自己的战车上，仅此而言，当然这也是ASML的能力。