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本土企业推进深紫外光刻机研发 美股半导体设备股走低 ASML（ASML）跌7.09%

金吾财讯
Jul 27

金吾财讯 | 据知情人士报道，一家总部位于上海、获得国内政策支持的未具名企业，已经启动深紫外光刻机（DUV）的研发制造工作。消息传出后，全球光刻机龙头ASML（ASML）早盘股价下跌7.09%，AXT Inc（AXTI）跌4.83%，库力索法半导体（KLIC）跌5.16%，科磊（KLAC）跌5.20%，应用材料（AMAT）跌5.57%，SmartKem（SMTK）跌5.97%，安霸（AMBA）跌6.33%，泛林集团（LRCX）跌6.82%。

受现行美国出口管制约束，最先进半导体设备难以流入国内市场，推动本土企业加速自主技术攻关。报道显示，国内DUV光刻机项目尚处在发展早期，企业规划本年度生产5台相关设备，明年最大产能目标为20台；与此同时国内极紫外光刻机（EUV）研发仍停留在原型阶段，距离实现量产还有数年时间。从ASML经营数据来看，其二季度净系统销售额当中14%来自中国市场，相比一季度19%有所回落。不过公司首席财务官R.J.M.Dassen在业绩电话会维持预期，中国业务全年仍将贡献集团净销售额约20%，并会伴随整体业务扩张持续增长，需求支撑主要来自主流逻辑芯片产业需求上行。国内对于光刻机产业布局由来已久，早在2002年便将光刻机列为重点发展赛道。2022年美国出台先进设备出口限制之后，国内产业发展模式有所调整，由单一国家主导研发转向国家与民营企业协同推进。短期来看本土先进光刻设备距离大规模商业化仍存在明显差距，长期层面设备自主化进程持续推进，也成为海外半导体设备厂商无法忽视的行业变量。

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